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半導體超聲波清洗機案例

日期:2022-05-14作者:光點超聲波瀏覽量:3123
超聲波清機清洗工藝:

超聲波清洗工藝是指采用超聲波在清洗介質(zhì)物理反應過程中清除產(chǎn)品工件表面上液體和固體殘留污染物,使產(chǎn)品工件表面達到一定的清潔干凈程度。超聲波清洗過程是:超聲波、清洗介質(zhì)、污染物、產(chǎn)品工件表面之間的相互物理反應作用,是一種復雜的物理/化學反應工作過程。超聲波清洗不僅與污染物的性質(zhì)、類別、形態(tài)以及粘附的程度有關(guān),和清洗溶劑的化學性質(zhì)、清洗性能、產(chǎn)品工件的材料、表面狀態(tài)、還有清洗的條件,如溫度、壓力以及附加的超聲波振動、機械外力等因素有著密切關(guān)系。因此,選擇科學合理的清洗工藝流程,必須進行不同產(chǎn)品工件工藝進行分析研究。

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